为促进学术交流，拓宽师生国际学术视野，学院特邀请中国兵器工业集团冯昊研究员来我校进行学术交流，并作专题学术讲座。欢迎我校师生参加讲座。
讲座时间：2026年7月9日（周四）下午3：00
讲座地点：哈尔滨理工大学 西区1号楼1210会议室
主讲人：冯昊 研究员
主讲人简介：冯昊，1979年生，北京大学学士，美国西北大学博士。现任中国兵器工业集团研究院、博士生导师。研究工作主要围绕原子层沉积（ALD）技术开展，具体包括先进ALD装置研发、纳米含能材料、纳米催化、功能薄膜材料等。主持国家自然科学基金等重大科研项目二十余项。在国际科技期刊发表SCI研究论文五十余篇，获得专利授权四十余项。主持开发的自主可控ALD设备产品打破国外技术垄断，服务国内数十家科研单位。入选国家级高层次人才等，获得国务院政府特殊津贴。
讲座题目：原子级制造暨原子层沉积技术简介
摘要：
信息技术、航空航天、国防科技和新能源等行业的快速发展对核心材料、部件的制造精度要求不断提升，某些行业（如半导体）制造精度已逐步逼近原子级别，传统的制造方法难以满足要求。原子级制造通过对原子位置和结构的精准操纵，能够在微观尺度上实现材料的精准构筑，创造出新型材料和器件。本报告依据国家自然科学基金委最新发布的“原子级制造技术白皮书”，对原子级制造技术的内涵、原理、主要方法，以及挑战和机遇进行简要介绍；并结合本课题组原子层沉积技术研究实例，展示原子级制造技术的广阔前景。
原子层沉积（Atomic layer deposition, 简称ALD）是一种先进的薄膜沉积技术。借助该技术可对物质表面组成及结构进行原子层面的精确操纵，在材料表面引入特定的物理或化学性质，实现多种材料的原子级精度可控合成。ALD技术在薄膜三维均匀性、厚度控制精度等方面具有其它薄膜沉积技术难以比拟的优势，多种无机及有机材料均可通过ALD方式合成。ALD技术综合成本相对低廉，具备规模化实施可行性，因此在原子级制造领域拥有非常广阔的应用前景。本报告将简要介绍ALD技术的基本原理、特点、要素、实现方法，自主可控ALD设备的研制与产业化实施进展，以及ALD技术在功能薄膜材料，高能固体燃料、锂离子电池电极材料表面工程，以及模型催化剂原子级精准合成中的典型应用。
科技处 机械动力工程学院
2026年7月7日